Nachhaltige Reinigung mit flüssigem Kohlendioxid als Reinigungsmedium

Die gründliche Reinigung elektronischer Komponenten und Systeme gewinnt zunehmend an Bedeutung, da sie einen entscheidenden Einfluss auf deren Leistungsfähigkeit, Funktionalität, Zuverlässigkeit und Lebensdauer hat. Angesichts der wachsenden Anforderungen an die technische Sauberkeit sind innovative Lösungen gefragt, die diesen Anforderungen trocken, prozesssicher und nachhaltig gerecht werden können. Die quattroClean-Schneestrahltechnologie von acp systems bietet genau das: eine skalierbare, reinraumgerechte und inlinefähige Lösung, die sich für eine Vielzahl von Reinigungsanwendungen eignet.

Innovative Reinigungslösung für elektronische Systeme und Komponenten

Dank der quattroClean-Schneestrahltechnologie von acp systems können elektronische Komponenten und Systeme trocken und effektiv gereinigt werden. Das Reinigungsmedium besteht aus flüssigem Kohlendioxid, welches aus chemischen Produktionsprozessen und der Energiegewinnung aus Biomasse recycelt wird. Durch eine spezielle Zweistoff-Ringdüse wird das Kohlendioxid in feine Schneekristalle umgewandelt, die anschließend mittels eines Druckluftstrahls auf die zu reinigende Oberfläche gerichtet werden. Durch den thermischen, mechanischen und sublimativen Effekt des Kohlendioxids werden Verschmutzungen effektiv entfernt, ohne dass Rückstände oder Feuchtigkeit auf der Oberfläche verbleiben.

Mit der quattroClean-Schneestrahltechnologie von acp systems werden die Schneekristalle durch einen Druckluftstrahl auf die zu reinigende Oberfläche projiziert. Durch die Kombination von thermischem, mechanischem, Lösemittel- und Sublimationseffekt werden alle Kontaminationen entfernt. Das kristalline Kohlendioxid sublimiert dabei vollständig, wodurch die behandelten Flächen trocken bleiben. Die quattroClean-Technologie ermöglicht somit eine effiziente Reinigung ohne zeitaufwendige Spül- und Trocknungsprozesse.

Die quattroClean-Schneestrahltechnologie von acp systems wurde umfassend untersucht und ihre Reinigungsergebnisse sind beeindruckend. Sie erfüllt die Anforderungen der Oberflächenreinheitsklasse (ORK) 1 nach VDI 2083, Blatt 9.1:2006 in Bezug auf partikuläre Restkontaminationen. Selbst bei bereits nasschemisch gereinigten Bauteilen kann sie eine partikuläre Reinheit entsprechend ORK 0,1 wiederholgenau erreichen. Bei filmischen Rückständen erzielt sie vergleichbare Reinigungsergebnisse wie andere Feinstreinigungsverfahren wie nasschemische und Plasmareinigung sowie vakuum-Ausheizen.

Umweltschonende Reinigung mit Kohlendioxid und Prozessgas von Linde

Die quattroClean-Schneestrahltechnologie revolutioniert die Reinigung von elektronischen Komponenten und Systemen. Durch den Einsatz von flüssigem Kohlendioxid als Reinigungsmedium wird eine effektive und nachhaltige Reinigung erreicht. Die Technologie ist mit dem Green Screen-Zertifikat ausgezeichnet, das bestätigt, dass im Prozessgas keine schädlichen chemischen Stoffe enthalten sind. Dadurch wird eine umweltschonende Reinigung ermöglicht, die sowohl menschen- als auch naturfreundlich ist.

Maßgeschneiderte Reinigungslösungen für unterschiedliche Produktionsszenarien

Mit einer breiten Palette an Reinigungslösungen ermöglicht acp systems eine maßgeschneiderte Anpassung an die individuellen Anforderungen und Produktionsumgebungen. Die Lösungen bestehen aus standardisierten Modulen, die flexibel kombiniert und individuell geplant werden können. Die Anlagen werden aus hochwertigem Edelstahl gefertigt und entsprechend den Reinraumklassen angepasst. Durch eine optimale Medienaufbereitung wird eine hohe Reinheitsqualität des Prozessmediums und der Druckluft gewährleistet. Insbesondere in der Halbleiter-Produktion kann ein Gaswäscher integriert werden, um organische Stoffe effektiv zu entfernen.

Teilespezifische Reinigungsprogramme durch ermittelte Werte im Reinraum-Technikum von acp systems

Das Reinraum-Technikum von acp systems bietet die ideale Umgebung für Reinigungsversuche. Der validierte Reinraum der Klasse ISO 7 erfüllt höchste Sauberkeitsanforderungen und ermöglicht die genaue Anpassung der Prozessparameter an die spezifische Anwendung. Die ermittelten Werte können direkt in die Anlagensteuerung übertragen werden, um eine effiziente und zuverlässige Reinigung von elektronischen Komponenten und Systemen zu gewährleisten.

Die quattroClean-Schneestrahltechnologie von acp systems ist eine skalierbare und flexibel einsetzbare Lösung für die Reinigung von elektronischen Komponenten und Systemen. Durch den Einsatz von flüssigem Kohlendioxid als Reinigungsmedium können verschiedene Reinigungsanforderungen erfüllt werden. Die trockene Reinigung ermöglicht eine hohe Reinheitsqualität und eliminiert aufwendige Spül- und Trocknungsprozesse. Die Technologie bietet maßgeschneiderte Lösungen für unterschiedliche Anwendungen in der Elektronikindustrie.